■焦点合わせ：レーザーポインタ－
■フィルタ：

　　　＊一次フィルタ：Al-自動切替

　　　＊二次フィルタ：Co-自動切替

■試料ステージ：

　　　＊（テーブル寸法）X:430,Y:330(mm)

　　　＊（移動量）X:400,Y:300,Z:50(mm)

■装置寸法： 

　　　＊520(W)×600(D)×445(H) mm

◆Canonレ－ザ－プリンタ－接続

◆原理

　蛍光X線分析法は、発生した蛍光X線の波長・強度から定性、定量分析を行います。

検出された蛍光X線強度から、検量線法及びFP「ファンダメンタルパラメ－タ：物理定数」

法により、含有量を求めることが出来ます。多層薄膜では、検量線法では標準試料を用いる

必要がある為、適用が困難で理論強度計算を利用したFP法により簡易に付着量・膜厚を測定

することが出来ます。

　◆保有設備　セイコ－インスツルメンツ製　SFT9200

めっき済み製品にＸ線を照射し、そこから得られる蛍光Ｘ線のエネルギーおよび強度から、めっきの膜厚測定 や金属材料等の定性分析を行う装置です。本装置は試料にＸ線を照射することにより、非破壊で膜厚 測定や定性分析が可能です。また断面観察と比較し短時間で膜厚測定が可能です。

蛍光X線による膜厚測定は、非破壊で1µｍ以下の膜厚や

多層めっきも測定可能であるという特徴を持っています。

鉄材のニッケルめっきにX線を照射すると、めっき厚が厚くなる

ほどニッケルめっきから放出されるX線（蛍光X線）強度が

増加します。「図A」あらかじめ膜厚既知の標準試料を測定し、

膜厚と蛍光X線の強度の関係を把握する事（検量線法）又は、理論計算（薄膜FP法）により、ニッケルめっきの膜厚を測定します。下記表Bは主な元素の測定可能範囲の上限値及び

下限値を示したものです。

　　　　　　　　　　　　表B　　主な元素の測定可能膜厚